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IT之家 11 月 12 日消息,据韩国产业通商资源部官网新闻稿,半导体光刻胶巨头日本 JSR 今日在韩国忠清北道清州举行 MOR(IT之家注:金属氧化物)光刻胶生产基地的奠基仪式。 该生产基地由 JSR 在韩子公司 JSR Micro Korea 建设,将生产可用于 EUV 光刻的 MOR 光刻胶,目标 2026 年建成投产。这也是韩国境内的首个同类光刻胶工厂。 适用于 EUV 制程的 MOR 光刻胶能够替代低端化学放大光刻胶,在确保超精细工艺的竞争力方面发挥着关键作用。JSR Micro
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